Okoroanyanwu, U. (2010). Chemistry and Lithography. SPIE. https://doi.org/10.1117/3.821384
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Okoroanyanwu, Uzodinma. Chemistry and Lithography. SPIE, 2010. https://doi.org/10.1117/3.821384.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Okoroanyanwu, Uzodinma. Chemistry and Lithography. SPIE, 2010. https://doi.org/10.1117/3.821384.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.