Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective

Մատենագիտական մանրամասներ
Հիմնական հեղինակ: Erdmann, Andreas
Ձևաչափ: Էլեկտրոնային էլ․ գիրք
Լեզու:English
Հրապարակվել է: SPIE, 2021
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:Full text available on SPIE Digital Library
Off-campus access