Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective

Մատենագիտական մանրամասներ
Հիմնական հեղինակ: Erdmann, Andreas
Ձևաչափ: Էլեկտրոնային էլ․ գիրք
Լեզու:English
Հրապարակվել է: SPIE, 2021
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:Full text available on SPIE Digital Library
Off-campus access
Նկարագրություն
Նյութի նկարագրություն:<strong>Off-Campus Access:</strong> Athens ID and Password Required
<strong>On-Campus Access:</strong> No User ID or Password Required
Ֆիզիկական նկարագրություն:1 online resource
Ձևաչափ:Mode of access: Internet
ISBN:9781510639010
9781510639027
DOI:10.1117/3.2576902
Հասանելի:Electronic access restricted to authorized BRAC University faculty, staff and students