Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography

Bibliografische gegevens
Hoofdauteur: Wei, Yayi
Formaat: Elektronisch E-boek
Taal:English
Gepubliceerd in: SPIE, 2009
Onderwerpen:
Online toegang:Full text available on SPIE Digital Library
Off-campus access
Omschrijving
Beschrijving item:<strong>Off-Campus Access:</strong> Athens ID and Password Required
<strong>On-Campus Access:</strong> No User ID or Password Required
Fysieke beschrijving:1 online resource
Formaat:Mode of access: Internet
ISBN:9780819475572
9780819478436
DOI:10.1117/3.820233
Toegang:Electronic access restricted to authorized BRAC University faculty, staff and students