Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography

Detalhes bibliográficos
Autor principal: Wei, Yayi
Formato: Recurso Eletrônico livro eletrônico
Idioma:English
Publicado em: SPIE, 2009
Assuntos:
Acesso em linha:Full text available on SPIE Digital Library
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Descrição
Descrição do item:<strong>Off-Campus Access:</strong> Athens ID and Password Required
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Descrição Física:1 online resource
Formato:Mode of access: Internet
ISBN:9780819475572
9780819478436
DOI:10.1117/3.820233
Acesso:Electronic access restricted to authorized BRAC University faculty, staff and students