Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography

Bibliografiset tiedot
Päätekijä: Wei, Yayi
Aineistotyyppi: Elektroninen E-kirja
Kieli:English
Julkaistu: SPIE, 2009
Aiheet:
Linkit:Full text available on SPIE Digital Library
Off-campus access
Kuvaus
Huomautukset:<strong>Off-Campus Access:</strong> Athens ID and Password Required
<strong>On-Campus Access:</strong> No User ID or Password Required
Ulkoasu:1 online resource
Aineistotyyppi:Mode of access: Internet
ISBN:9780819475572
9780819478436
DOI:10.1117/3.820233
Pääsy:Electronic access restricted to authorized BRAC University faculty, staff and students