Wei, Y. (2009). Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography. SPIE. https://doi.org/10.1117/3.820233
Chicago-referens (17:e uppl.)Wei, Yayi. Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography. SPIE, 2009. https://doi.org/10.1117/3.820233.
MLA-referens (8:e uppl.)Wei, Yayi. Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography. SPIE, 2009. https://doi.org/10.1117/3.820233.
Varning: dessa hänvisningar är inte alltid fullständigt riktiga.