Wei, Y. (2009). Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography. SPIE. https://doi.org/10.1117/3.820233
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Wei, Yayi. Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography. SPIE, 2009. https://doi.org/10.1117/3.820233.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Wei, Yayi. Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography. SPIE, 2009. https://doi.org/10.1117/3.820233.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.