Citace podle APA (7th ed.)

Kawahira, H. Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX. SPIE Digital Library.

Citace podle Chicago (17th ed.)

Kawahira, Hiroichi. Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX. SPIE Digital Library.

Citace podle MLA (8th ed.)

Kawahira, Hiroichi. Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX. SPIE Digital Library.

Upozornění: Tyto citace jsou generovány automaticky. Nemusí být zcela správně podle citačních pravidel..