Photomask Japan 2016: XXIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology

Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Yoshioka, Nobuyuki
Format: Elektronisch Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: SPIE Digital Library, 9/19/16
Schlagworte:
Online Zugang:Full text available on Research4Life (SPIE Digital Library)
Classic Catalogue: View this record in Classic Catalogue
Beschreibung
Beschreibung:<strong>On-Campus Access Only (IP based access)</strong>
Beschreibung:1 online resource
Format:Mode of access: Internet
ISBN:9781510603721
9781510603738
Zugangseinschränkungen:Electronic access restricted to authorized BRAC University faculty, staff and students