APA-referens (7:e uppl.)

Ando, A. Photomask Japan 2019: XXVI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.

Chicago-referens (17:e uppl.)

Ando, Akihiko. Photomask Japan 2019: XXVI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.

MLA-referens (8:e uppl.)

Ando, Akihiko. Photomask Japan 2019: XXVI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology. SPIE Digital Library.

Varning: dessa hänvisningar är inte alltid fullständigt riktiga.